T491C226K006AS

Онлайн - запрос

Пожалуйста, заполните все необходимые поля с вашей контактной информацией. Нажмите «Отправить RFQ». Мы свяжемся с вами в ближайшее время по электронной почте.Или напишите нам:info@ftcelectronics.com

Запрос онлайн

Спецификация

Тип продуктов

T491C226K006AS
Изготовитель / Производитель

KEMET
Количество запасов

Быть в наличии
Описание

CAP TANT 22UF 6.3V 10% 2312
Статус бесплатного свидания / Статус RoHS

Содержит несоответствие свинца / RoHS
Спецификация

T491C226K006AS.pdf
Напряжение - Номинальный

6.3V
Тип

Molded
Толерантность

±10%
Размер / Dimension

0.236" L x 0.126" W (6.00mm x 3.20mm)
Серии

T491
упаковка

Tape & Reel (TR)
Упаковка /

2312 (6032 Metric)
Другие названия

399-1555-2
Рабочая Температура

-55°C ~ 125°C
Тип установки

Surface Mount
Уровень чувствительности влаги (MSL)

1 (Unlimited)
Производитель Код размера

C
Срок службы @ Temp.

-
Шаг выводов

-
Статус бесплатного свидания / Статус RoHS

Contains lead / RoHS non-compliant
Высота - Сидящая (Макс)

0.110" (2.80mm)
Особенности

General Purpose
Интенсивность отказов

-
ESR (эквивалентное последовательное сопротивление)

1.8 Ohm
Подробное описание

22µF Molded Tantalum Capacitors 6.3V 2312 (6032 Metric) 1.8 Ohm
емкость

22µF

Ниже приведены продукты, связанные с T491C226K006AS.

T491C226K006AT4153

Описание: CAP TANT 22.0UF 6.0V

Производители: KEMET

Быть в наличии

Забронируйте свое время!

Все, что нужно, это несколько кликов, чтобы зарезервировать свое место и получить билет на стенд

Предварительная регистрация

T491C226K006AS

Онлайн - запрос

Графическая карта NVIDIA RTX 5090 имее...

Антропик получает еще 4 миллиард...

Полу: продажи IC увеличиваются на...

Сообщается, что Kioxia получит одоб...

Последняя кремниевая оптическа...

Индустрия восстанавливается ме...

Comprehensive analysis of inductance: basics, characteristi...

The core value and future development trend of passive comp...

Поставщик: большое количество к...

Тайвань, выходной стоимость пол...

Расширение производства панеле...

Amazon увеличивает усилия по созда...

Выберите язык

Текущий язык